国产6英寸磷化铟技术实现重大突破

在AI算力需求激增的推动下，曾经被视为“过渡技术”的磷化铟材料正重新站上产业舞台。这种由磷和铟组成的II-V族化合物半导体，凭借高电子迁移速度和低发光损耗的特性，成为光芯片制造的关键材料。过去主要用于电信设备和特殊仪器的磷化铟，如今因AI对高速数据传输的需求，一跃成为产业链中的热门材料。

全球产业链正在加速布局。光芯片龙头Lumentum通过其磷化铟平台实现EML激光器的大规模出货，并开始向多家超大规模客户交付200G通道速率产品。日本JX金属计划投资15亿日元提升磷化铟衬底产能20%，以应对AI数据中心对光通信的旺盛需求。与此同时，国内在磷化铟领域也取得突破，九峰山实验室成功开发出6英寸磷化铟基光电器件的外延生长工艺，关键性能达到国际领先水平，标志着我国在大尺寸磷化铟材料国产化上迈出关键一步。