三星HBM4量产提速反超SK海力士

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英伟达Vera Rubin显卡临近发布,HBM4内存大战全面开打。三星率先放大招:第六代10nm DRAM芯片尺寸加宽,既稳住TSV(硅通孔)工艺,又为HBM4高I\/O需求腾出空间。更大面积带来更宽松的TSV布局,散热更好、可靠性更高。但代价明显——单片晶圆产出减少,利润承压;加上其主推的1c DRAM良率仅六成,量产压力不小。

三星已在清州工厂启动HBM4量产,市占率反超SK海力士,2025年Q4达36.6%。SK海力士加速追赶,把清州M15X工厂量产时间提前四个月,目标年底扩产至数万片晶圆。JEDEC标准从8Gbps提至11.7Gbps,三星宣称性能与良率双领先,无需改版。TrendForce预计,三大厂验证将在2026年Q2收尾,三星打头阵,SK海力士和美光紧随其后,共同供应英伟达Rubin平台。

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