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黄仁勋近日到访台积电位于美国亚利桑那州凤凰城的工厂,与台积电高管共同见证首片在美国本土生产的Blackwell晶圆下线。这一里程碑标志着英伟达最新AI核心芯片正式迈入量产阶段。Blackwell采用台积电4NP工艺,集成2080亿个晶体管,是前代Hopper的2.5倍以上,配备192GB HBM3E显存和第五代NVLink技术,性能大幅提升。其创新设计包括FP4精度、第二代Transformer引擎和专用解压模块,专为大模型推理与高效数据处理而生。早在今年3月,英伟达就在GTC大会上展示了GB200超级芯片,宣称推理性能提升30倍,能耗与成本降低25倍。
随着Blackwell落地量产,AI硬件进入新周期。数据显示,2025年全球四大云服务商将采购360万片Blackwell芯片,远超2024年Hopper架构的130万片。英伟达计划下半年过渡到Blackwell Ultra,2025年实现架构升级,保持“一年一更”的迭代节奏。与此同时,台积电在美布局加速推进。其亚利桑那工厂分三阶段建设,首阶段将于2025年投产4nm\/5nm芯片,主要供应苹果A16处理器;第二阶段瞄准2027至2028年,推进3nm乃至2nm工艺;最终阶段将在十年内完成,总投资约650亿美元。这座“超级晶圆厂”集群将成为支撑人工智能、高性能计算发展的关键基石。
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