国产电子束光刻机进入测试

近日，杭州余杭区传来好消息，首台国产商业化电子束光刻机“羲之”正式进入应用测试阶段。这款由浙大量子研究院自主研发的设备，加速电压达到100kV，精度可达0.6纳米，具备直接在硅基上写电路的能力，无需传统光刻所需的掩膜版，为量子芯片和新型半导体研发提供了强有力的技术支持。

尽管电子束光刻具备超高分辨率和灵活作图的优势，但其量产效率仍是硬伤。目前，光学光刻机1小时就能完成几十甚至上百片晶圆刻写，而电子束光刻速度则慢了近3个数量级。因此，业内普遍采用折中方案：小图形细节用电子束光刻，大线条则依靠光学光刻机，以提升整体效率。电子束光刻更多应用于130nm及以下制程的掩膜版制造，适合企业早期预研或科研用途。

要突破效率瓶颈，多电子束并行方案是关键路径。不过，这一技术的研发进展较慢，且配套工艺复杂，还涉及电子束光刻胶等难题。尽管如此，在国外高端设备禁运的背景下，“羲之”的国产化落地，为国内科研机构和企业打破限制带来了新希望，目前已与多家机构展开合作洽谈。